若一個電子由軌道游離，則其他能階的電子會自然的跳至他的位置，以達(dá)到穩(wěn)定的狀態(tài)，此種不同能階轉(zhuǎn)換的過程可釋放出能量，即X-射線。因為各元素的每一個原子的能階均不同，所以每一元素軌道間的能階差也不同相同。

　　下述可描述X-射線熒光的特性：若產(chǎn)生X-射線熒光是由于轉(zhuǎn)移一個電子進(jìn)入K軌道，一個K軌道上的電子已事先被游離，另一個電子即代替他的地位，此稱之為K輻射。不同的能階轉(zhuǎn)換出不同的能量，如Kα輻射是電子由L軌道跳至K軌道的一種輻射，而Kβ輻射是電子從M軌道跳至K軌道的一種輻射，其間是有區(qū)別的。若X-射線熒光是一個電子跳入L的空軌域，此種輻射稱為L輻射。同樣的L輻射可劃分為Lα輻射，此是由M軌道之電子跳入L軌道及Lβ輻射，此是由N軌道之電子跳入L軌道中。由于Kβ輻射能量約為Kα的11%，而Lβ輻射能量較Lα大約20%，所以以能量的觀點(diǎn)Lα及Lβ是很容易區(qū)分的。

　　原子的特性由原子序來決定，亦即質(zhì)子的數(shù)目或軌道中電子的數(shù)目，即如圖所示特定的X-射線能量與原子序間的關(guān)系。K輻射較L輻射能量高很多，而不同的原子序也會造成不同的能量差。

　　特定的X-射線可由比例計數(shù)器來偵測。當(dāng)輻射撞擊在比例器后，即轉(zhuǎn)換為近幾年的脈波。電路輸出脈沖高度與能量撞擊大小成正比。由特殊物質(zhì)所發(fā)出的X-射線可由其后的鑒別電路記錄。

　　使用X-射線熒光原理測厚，將被測物置于儀器中，使待測部位受到X-射線的照射。此時，特定X-射線將由鍍膜、素材及任何中間層膜產(chǎn)生，而檢測系統(tǒng)將其轉(zhuǎn)換為成比例的電信號，且由儀器記錄下來，測量X-射線的強(qiáng)度可得到鍍膜的厚度。

　　在有些情況，如：印刷線路板上的IC導(dǎo)線，接觸針及導(dǎo)體的零件等測量要求較高,一般而言，測量鍍膜厚度基本上需符合下述的要求：

　　1.不破壞的測量下具高精密度。

　　2.極小的測定面積。

　　3.中間鍍膜及素材的成份對測量值不產(chǎn)生影響。

　　4.同時且互不干擾的測量上層及中間鍍膜。

　　5.同時測量雙合金的鍍膜厚及成份。

　　而X-射線熒光法就可在不受素材及不同中間膜的影響下得到高精密度的測量。

　　二.主要特點(diǎn)

　　1.無損、精確、快速測量各種電鍍層的厚度.

　　2.電鍍層可以是單層/雙層/三層

　　3.鍍金/鍍銀/鍍鎳/鍍銅等都可以測量

　　4.有電鍍液成份分析以及金屬成份分析等軟件

　　5.易操作/易維護(hù)

　　6.準(zhǔn)直器程控交換系統(tǒng)最多可同時裝配6種規(guī)格的準(zhǔn)直器，程序交換控制。